※ 引述《LitterShripm (litter_shrimp)》之銘言：
: 想請問製作一鏡到底的橫向卷軸遊戲，在只有一個場景的情況下是把所有的地形和
: 機關都先給鋪設好嗎？
: 這樣如果中途想修改是否會很容易影響到後面的關卡？
: 如果要優化除了遮擋剃除還會需要其他的優化嗎？
: 粒子好像無法遮擋剃除
可以分塊做，在編輯器裡面拼起來
快要到下一個區塊的時候，再載入該區塊
粒子可以遮擋剔除
需要計算每個噴發器會波及到的最大範圍
最粗淺的估計就是以噴發器中心往外
用最大粒子速度、半徑、和生命周期推算bounding volume
要注意如果BV估算太小，會發生false positive遮擋剔除(還不少遊戲有這問題...)
另外，常見的粒子優化(除遮擋剔除以外)有:
1. 在畫面外又距離遙遠
不模擬也不繪製
2. 在畫面外又距離近但不會進入畫面
可以用較低頻率模擬(e.g. 每3個frame用dt*3模擬，或每frame用dt*3模擬1/3粒子)
但還是不用繪製
這樣可以避免更加靠近時，不小心讓玩家目擊噴發器未啟動或剛起步的狀態
3. 一但粒子會進入畫面，就完全模擬和繪製