[新聞] 陸研製成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻裝備
作者: orz44444 (新台幣沒有國際信用!!!!) 2018-11-30 15:55:53
https://www.chinatimes.com/realtimenews/20181129003782-260409
2018年11月29日 17:45 旺報 李鋅銅
由大陸中國科學院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備——超分辨光刻裝備專案29日
在成都通過驗收，大陸科學家已研製成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，
並形成一條全新的奈米光學光刻工藝路線，具有完全自主智慧財產權。
中科院光電所所長、超分辨光刻裝備專案首席科學家羅先剛研究員表示，2012年，該所承
擔了超分辨光刻裝備這一國家重大科研裝備項目研製任務，經過近7年艱苦攻關，在無國
外成熟經驗可借鑑情況下，專案組突破了高均勻性照明、超分辨光刻鏡頭、等關鍵技術，
完成國際上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研製，採用365奈米波長光源，單次曝
光最高線寬分辨力達到22奈米。專案組還結合超分辨光刻裝備專案開發的高深寬比刻蝕、
多重圖形等配套工藝，實現了10奈米以下特徵尺寸圖形的加工。
這一世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，是基於表面等離子體超衍射研製而成，
打破了傳統光學光刻分辨力受限於光源波長及鏡頭數值孔徑的傳統路線格局，形成了一條
全新的超衍射奈米光刻從原理、裝備到工藝的技術路線，具有完全自主智慧財產權，為超
材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶片等變革性戰略領域的跨越式發展提供了製造工
具。
2018年11月29日 17:45 旺報 李鋅銅
由大陸中國科學院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備——超分辨光刻裝備專案29日
在成都通過驗收，大陸科學家已研製成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，
並形成一條全新的奈米光學光刻工藝路線，具有完全自主智慧財產權。
中科院光電所所長、超分辨光刻裝備專案首席科學家羅先剛研究員表示，2012年，該所承
擔了超分辨光刻裝備這一國家重大科研裝備項目研製任務，經過近7年艱苦攻關，在無國
外成熟經驗可借鑑情況下，專案組突破了高均勻性照明、超分辨光刻鏡頭、等關鍵技術，
完成國際上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研製，採用365奈米波長光源，單次曝
光最高線寬分辨力達到22奈米。專案組還結合超分辨光刻裝備專案開發的高深寬比刻蝕、
多重圖形等配套工藝，實現了10奈米以下特徵尺寸圖形的加工。
這一世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備，是基於表面等離子體超衍射研製而成，
打破了傳統光學光刻分辨力受限於光源波長及鏡頭數值孔徑的傳統路線格局，形成了一條
全新的超衍射奈米光刻從原理、裝備到工藝的技術路線，具有完全自主智慧財產權，為超
材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶片等變革性戰略領域的跨越式發展提供了製造工
具。
作者: furio (void) 2018-11-30 16:01:00
365nm???
作者: jason770301 (Jason) 2018-11-30 16:06:00
這有比EUv強嗎？
作者: winderb53 (湛藍龍貓) 2018-11-30 16:08:00
22nm?10nm?GG果然比支那強
作者: batista1980 (生活要精采) 2018-11-30 16:11:00
這次是拿哪家的來re-marking?I line做sub 10nm, 那我沖天砲都可以射上月球了真不愧是中時
作者: yue831023 (玥) 2018-11-30 16:23:00
厲害了 我的國
作者: nick65415 (期待能翻身的鹹魚) 2018-11-30 16:24:00
厲害了我的國
作者: BaGaJohn5566 (莫忘初衷) 2018-11-30 16:34:00
不用靠asml的意思喔？ 果然支那最強
作者: calibration (噓我啊~~~) 2018-11-30 16:51:00
痾.....
作者: h7705060 (邪惡小貓) 2018-11-30 17:03:00
" target="_blank" rel="nofollow"> ASML輸了只有220 nm作者: smalljacky03 (小小迷糊蟲愛搗蛋03) 2018-11-30 18:27:00
呵呵
作者: gametv (期待著今天) 2018-11-30 19:13:00
結果機器外箱是A....
作者: wellkom (wellkom) 2018-11-30 19:17:00
這次又是拿哪一家的來 Remark?
作者: ggBird (ggBird) 2018-11-30 19:18:00
習近平萬歲
作者: qwe172839 (你何不食屎) 2018-11-30 21:27:00
mark抹掉 技術文件翻譯一下 就是自己的ㄌ
作者: jim543000 (玄黃無極) 2018-11-30 21:28:00
double pattern是專利 是在用屁用
作者: loadingN (sarsaparilla) 2018-11-30 21:33:00
或成最大贏家
作者: roger2 (愛情販賣機) 2018-11-30 22:04:00
I-line 可以做22nm ??
作者: Zeromatthew (ZERO) 2018-11-30 22:33:00
可以啊～公式每個人都知道，怎麼做不出來… 比如搞個高NA Lens,但是機台能不能量產，符不符合經濟效益…呵呵！
作者: xfile (我好窮 沒錢賭WC) 2018-11-30 23:45:00
厲害了 我的國 快把殲20的芯片都換上吧 嘻嘻
作者: kai0914 (好人) 2018-12-01 07:38:00
這國家沒在尊重專利的，不然怎會被美國打。
作者: sendtony6 (TY) 2018-12-01 07:42:00
結果就是一堆垃圾撕開標籤，結果是asml的mark
作者: remax (就叫做暱稱吧) 2018-12-01 08:57:00
這次是買哪家的來改自家商標？
作者: sonyvaio (Keroro) 2018-12-01 19:01:00
怕又是貼牌的
作者: stock999 (史托克柰褦錼) 2018-12-01 20:31:00
厲害了你的國
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