三星晶圓代工：7奈米EUV部分製程明年導入量產 惟全面擴張EUV新產線導入量產落在
2020年
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三星電子(Samsung Electronics)旗下晶圓代工事業部日前在日本舉行2018年三星晶圓代
工論壇(Samsung Foundry Forum 2018)，會中接櫫了好幾項重要的晶圓代工業務相關宣布
事項。除了重申將在未來幾個季度內開始導入極紫外光(EUV)設備開始量產(HVM)計畫外，
更在其晶圓代工產品藍圖中增加了一項全新的8LPU製程技術，預計將在2018年展開風險試
產，可望在南韓器興S1晶圓廠從2019年起導入量產。
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根據AnandTech、PC Watch等媒體報導，隨著全球晶圓代工二哥GlobalFoundries(GF)甫於
上週宣布無限期擱置7奈米以下先進製程佈建進程，退場7奈米製程競賽之後，全球晶圓代
工業者之中只剩下台積電以及三星、英特爾(Intel)成為10／7奈米競賽中的三雄對決。
相較於台積電第一代7奈米製程早就在2018年第1季量產，並且已經正式出貨客戶，估計可
望貢獻第3季營收佔比1成，挹注第4季營收比重超過2成以上。英特爾的10奈米製程首款PC
處理器Cannon Lake晶片卻要一再延宕到2019年第4季才能上市。有鑑於此，三星晶圓代工
事業部的7奈米進程，就顯得格外重要。
三星曾經在2017年承諾將從2018年起展開7LPP製程風險試產，報導指出，三星似乎已經展
開部分7LPP系統單晶片(SoC)生產工作，但應是以供應母公司為止，並未有對外出貨紀錄
。有鑑於7LPP製程將是三星晶圓代工旗艦型製程技術，預期將首先導入在打造母公司三星
旗下的行動系統單晶片Exynos系列處理器可能性最高。
而在日前的三星晶圓代工論壇日本場次中，該公司表示業已裝機完成好幾台ASML
Twinscan NXE:3400B EUVL步進機系統，座落於南韓華城的S3晶圓廠中，儘管三星並未透
露業已裝機完成的EUV設備數量，但仍表示上述曝光機(scanners)的效能表現與其量產目
標符合一致。
不過，值得注意的是，儘管三星宣稱投產7奈米製程的同時，也將一起導入EUV設備使用，
但三星初始利用EUVL設備的生產製程將僅只用其在選擇性層次而已，一開始預期將不會廣
泛性地使用整個新設備。事實上，有鑑於EUV製程也可說是首次應用在量產工作，三星目
前7奈米客戶正式對外透露的也有高通(Qualcomm)一家而已，高通業已選擇三星晶圓代工
7LPP製程為其Snapdragon 5G系統單晶片負責生產，預計2019年交貨。
三星表示，旗下晶圓代工事業部業已斥資6兆韓元在華城晶圓廠S3興建EUV新產線，這是利
基於華城EUV研發產線成功之後，進一步積極擴張EUV曝光技術，該產線預計將在2019年完
工，估計2020年開始全面展開晶圓代工量產工作。然而，即使三星能夠從2020年順利全面
量產，相較台積電從2019年第2季量產第二代7奈米EUV製程，也相對晚了3~6季，而且台積
電此前還有第一代7奈米製程練兵經驗，儘管7奈米製程被業界人士稱為長壽製程，但三星
恐怕是打破了先前宣稱率先業界7奈米EUV量產的豪語。
有鑑於此，三星涉及EUV設備的投產量產工作，至少在未來好幾個季度以內，都會侷限在
華城S3晶圓廠進行。業界觀察，或許這也是何以三星晶圓代工事業部此番突然在產品藍圖
中增加8LPP與8LPU製程，提供客戶服務選擇的原因之一。
台積電、三星及英特爾(Intel)等晶圓代工事業成敗繫於EUV產線，三星身為整合元件製造
商(IDM)，其實已累積相當多EUV產線實作技術訣竅，2019年三星7奈米製程一旦確保穩定
良率之後，勢將與台積電在高附加價值產品群展開激烈廝殺。