輝達執行長黃仁勳最近在年度GPU技術大會
宣布推出「cuLitho」軟體庫
能改善運算式微影技術
提升蝕刻至矽晶圓的電晶體解析度
並表示台積電、新思、ASML都會使用
優點：
晶圓廠還可將每日光罩產量提升3~5倍，用電量卻比當前組態少9倍（從35 MW減至5 MW）。也就是說，之前得花兩週才能完成的光罩，現在只消一晚即可製出。
黃仁勳聲明稿:
「晶片產業是世界上幾乎所有產業的基石。有鑑於微影技術已達物理極限，輝達決定推出cuLitho軟體庫並跟夥伴台積電、ASML、Synopsys合作，讓晶圓廠增加產出效率（ throughput）、減少碳足跡，也替2奈米及更微小的製程打下基礎。」
台積電總裁魏哲家聲明稿：
cuLitho團隊在加快運算式微影技術方面有了令人欽佩的進展，方式是將昂貴的運作轉移至GPU。最新發展為台積電開啟新的可能性，能更加廣泛地部署反向微影技術（inverse lithography technology）和深度學習（deep learning）等微影解決方案，進而對半導體縮放的延續性做出重要貢獻。
晶片產出穩定又快又節能
那未來2奈米是不是能便宜賣了？
有沒有八卦？