[討論] 黃光蝕刻薄膜擴散製程哪個壓力最大

作者: qazxsw123 (小新)   2022-05-07 19:03:09
在半導體產業中
最關鍵的四大製程 黃光蝕刻擴散薄膜
哪一個給人的壓力最大
令人避之唯恐不及
最容易讓優秀的四大四中碩士生離職的製程
是哪一個?
作者: sheepfeather (187)   2022-05-07 19:08:00
黃光+1
作者: nicho1as2002 (llll)   2022-05-07 19:10:00
早上黃光 下午蝕刻
作者: twopairs1122 (兩條二)   2022-05-07 19:14:00
重點是不但操,這兩大部門用的特化還很毒
作者: electronicyi (電子益)   2022-05-07 19:27:00
黃光裡面細分的EUV,設備基本叫ASML處理,製程最累
作者: weiflower520 (weiflower520)   2022-05-07 19:29:00
蝕刻啊 機台爛的要命
作者: EdgeOfPeople (邊緣人)   2022-05-07 20:54:00
怎麼會有薄膜啊==
作者: jameswang278 (jameswang)   2022-05-07 21:51:00
屎刻
作者: superplayer5 (陽光笨蛋)   2022-05-07 23:03:00
作film的都累 黃光蝕刻找不到問題都H/L film
作者: sheepfeather (187)   2022-05-08 05:53:00
遇到under etching 結果解法是黃光那邊修OPC
作者: MKAngelheart (夏。初雪)   2022-05-08 11:06:00
黃光+1 output每天review 累死
作者: transletum64 (六十四朔月)   2022-05-08 20:21:00
地震來Photo直接崩潰 過5分鐘全紅

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