隨著晶圓代工廠台積電（2330）及記憶體廠三星電子的7奈米邏輯製程均支援極紫外光（
EUV）微影技術，並會在2019年進入量產階段，半導體龍頭英特爾也確定正在開發中的7奈
米製程會支援新一代EUV技術。法人表示，三大半導體廠支援EUV的7奈米製程將在2020年
之後放量，打進英特爾及台積電EUV光罩盒供應鏈的家登（3680）將成為最大受惠者。
英特爾10奈米製程推進不如預期，導致14奈米產能供不應求，並造成2018年第四季以來的
處理器缺貨問題，預期要等到2019年第二季才會獲得紓解。英特爾日前已宣布將擴大資本
支出提升產能，並且預期10奈米Ice Lake處理器將在今年第四季量產出貨。
至於英特爾未來製程微縮計畫，據外電報導，掌管英特爾製程及製造業務技術及系統架構
事業的總裁兼首席工程師Murthy Renduchintala日前指出，10奈米製程與2014年訂定的製
程標準相同，不論性能、密度、功耗等都保持不變。另外，有了10奈米的製程研發經驗，
英特爾7奈米發展良好，並將加入新一代EUV微影技術，由於10奈米及7奈米是由不同團隊
開發，7奈米EUV製程不會受到10奈米製程延遲影響。不過，英特爾未提及7奈米何時可進
入量產。
業界指出，台積電及三星的7奈米EUV製程2019年逐步提升產能，但要開始真正大量進行投
片量產，應該要等到2020年之後。英特爾的7奈米EUV製程要真正進入生產階段，預期也要
等到2020年或2021年之後。不過，以三大半導體廠的計畫來看，EUV微影技術將成為7奈米
及更先進製程的主流。
隨著EUV製程進入量產階段，全球可提供EUV光罩盒的業者只有兩家，家登是其中之一。家
登新一代EUV光罩傳送盒G/GP Type在2018年底獲得設備大廠艾司摩爾（ASML）認證通過，
雙版本傳送盒可支援ASML的量產型EUV機台NXE: 3400B機型及未來更先進的機型。家登表
示，看好2019年半導體大廠開始採用EUV技術，家登光罩傳送盒可望放量出貨，目前產能
已供不應求，並積極擴產因應，對今年營運樂觀。
新聞來源: https://goo.gl/Lubg2K