[請益] 請問關於plasama etch system的問題 ability0207 PTT批踢踢實業坊

[請益] 請問關於plasama etch system的問題

作者: ability0207 (豪) 2016-03-24 22:27:23

1.同體積的He跟同體積的N2 價格差幾倍
2.plasama etch system中常使用的
backside He system中的He可否用N2取代
是因為N2會跟Si反應嗎
還有其他比較便宜的gas可以取代嗎
有沒有經濟效益 cost down有沒有搞頭呀
小弟無知異想天開請各位先進指教
謝謝

作者: melzard (如理實見) 2016-03-24 22:29:00

He是惰性氣體 N2在某些製程中可是會用作蝕刻氣體的要是發生leak現象對wafer有什麼副作用你無法預測監控

作者: santorini (聖托里尼) 2016-03-24 23:21:00

先搞清楚etching的原理你就知道氣體不是可以隨便換

作者: Forehand (正手) 2016-03-24 23:47:00

He冷卻效率比較好，不能換N2

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