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力拚ASML！佳能開賣晶片製造新設備
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發布時間：
2023/10/14 07:40
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原文內容：
〔財經頻道／綜合報導〕日本佳能公司已開始銷售奈米壓印（Nanoimprint lithography
）半導體製造系統設備，試圖與業界領導者荷商ASML和日商Nikon競爭，搶佔半導體製造
工具市佔率。
佳能新型晶片製造機可以使用極紫外微影 （EUV） 生產相當於5奈米規模的電路，EUV由
行業領導者ASML主導。佳能在周五（13日）的聲明中表示，預計其設備將透過改進達到下
一代 2nm生產。與國內同行Nikon一樣，佳能在EUV競賽中遠遠落後ASML，但其奈米壓印方
法可能有助其縮小差距。
奈米壓印曝光長期以來一直提供光學光刻的低成本替代方案，並且過去曾由記憶體製造商
SK 海力士和東芝公司推廣。這些機器繞過傳統的光刻技術，直接將電路圖案壓印到矽晶
圓上。東芝前記憶體部門Kioxia Holdings Corp. 之前測試過佳能的納米壓印機，確認已
達到商業成熟度。佳能現在證明它已經解決困擾的高缺陷率等問題。
佳能於2014年收購奈米壓印先驅Molecular Imprints Inc.，並花了近十年的時間研究該
技術。作為台積電的供應商，佳能正在東京北部的宇都宮建設20年來第一座光刻設備新工
廠，預計將於2025年投入生產。
值得注意的是，佳能的機器也可能為中美貿易戰增添新戰線，因為貿易制裁禁止向中國進
口EUV機器，而佳能新的技術完全跳過光刻技術，而是將所需的電路圖案壓印到矽晶圓上
。由於產品的新穎性，目前貿易限制不太可能明確禁止對中國銷售。佳能發言人拒絕就新
設備是否受到日本出口限制發表評論。
受日本股市大規模上漲以及人工智慧應用帶來的晶片製造設備需求提振的推動，佳能股價
今年以來已上漲26%。
心得/評論：
佳能推出奈米壓印半導體製造系統設備 不清楚此技術是否能威脅到ASML 但有競爭或許
是件好事 能壓低EUV價格?!
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