1.原文連結：
https://www.wealth.com.tw/home/articles/29691
2.原文內容：
進入後摩爾時代，極紫外光(EUV)微影成為推動先進製程向前邁進的關鍵技術，
目前包括台積電(2330)、三星(Samsung)、英特爾(intel)等大廠也積極導入EUV。
據供應鏈消息，2021年ASML(艾司摩爾)EUV設備出貨量從40台起跳，
法人看好ASML供應鏈的帆宣(6196)、家登(3680)、公準(3178)等有望持續受惠。
台積電從7+製程開始導入EUV技術，跨入新一製程世代，
每片晶圓所採用的EUV光罩層數也越來越多。
業內分析，台積7+大約需要2~4層EUV光罩層、5奈米約12~14層，
3奈米更需要到24層，可見EUV的重要性；
台積5奈米已在南科順利量產，而3奈米的生產基地也在南科，台南可說是EUV重鎮。
Intel、三星也積極布建EUV產能，加上SK海力士等記憶體大廠相繼導入EUV，
均將支撐EUV的未來需求。
現在市場已知的EUV供應鏈，包括光罩盒供應商家登、
EUV設備模組代工廠帆宣、零組件供應商公準等。
帆宣目前在手訂單約243億元，訂單年見度直透年底，
法人看好今年營收可望雙位數成長，整體營運表現將再締新猷。
3.心得/評論：
台積、Intel、三星、SK海力士、美光都積極在發展EUV技術，
這個應該是未來先進製程的關鍵中的關鍵，
Intel的7奈米一直做不出來，就是因為卡在EUV技術不夠，
台積電能發展先進製程的7奈米、5奈米、3奈米技術靠的就是EUV技術，
因此能提供EUV相關零組件的供應商，
帆宣(6196)、家登(3680)、公準(3178)，
因為這是巴菲特所稱有護城河的門檻，
應該可以用較高本益比來看。