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經濟日報 編譯葉亭均／綜合外電
日經新聞報導，日本信越化學工業公司將耗資約300億日圓（2.85億美元），將半導體廠重要材料光阻劑的產能調高20%，而且將首度在台灣生產，藉此為先進晶片的生產擴大供應。
信越化學將在日本與台灣投資生產光阻劑的新設備。這種材料用於在矽晶圓上形成電路圖案。
隨著半導體材料領域的競爭加劇、加上用於5G裝置、資料中心與其它應用的晶片需求成長，讓信越化學這家日本具領導地位的光阻劑大廠提高產能。
日經報導指出，信越化學在台灣的雲林廠將從2021年2月左右率先新增產能。屆時，信越化學將開始在台灣生產這種用於適合用於先進極紫外光（EUV）光刻技術的光阻劑。以往這種材料只在日本生產。信越化學希望此舉能滿足台積電等客戶攀高的需求。
在日本，信越化學位於新潟縣直江津的工廠的新設備預定在2022年2月開始運作。在台灣的產能將提高50％，直江津工廠將提高20％，同時也會擴編員工人數。
信越化學也將為南韓、中國大陸與其他市場的客戶提高產量。
其他日本光阻劑大廠，包括JSR與東京應化工業公司，也同時在日本與海外生產EUV光阻劑，而住友化學和富士軟片（Fujifilm）則準備進入這一領域。
在全球光阻劑市場中，日本業者合計市占高達約80%，光是信越化學的市占就達20%至30%。
根據研調機構富士經濟預測，光阻劑市場在2019年至2024年將成長60%至2,500億日圓。
3.心得/評論：
前有ASML公佈新EUV機型規格，2021年中發貨；後有信越化學首度在台生產光阻劑，雲林廠2021年2月完工量產，台灣產能增加50%
下午法說會又一片看好，GG準備噴噴了？