1.原文連結：
官方網站附財報
https://www.asml.com/en/news/press-releases/2020/q3-2020-financial-results
繁中版網站
https://codingnote.cc/zh-tw/p/238910
2.原文內容：
ASML公布最新一代EUV光刻機：更先進了
10月14日，荷蘭ASML（阿斯麥）公布了光刻機產品的最新進展。
其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發中的最先進光刻機系統，終於敲定最終規格。
具體來說，30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，並改進
機器匹配套准精度至1.1nm。
3600D定於2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應該不會低於現款老型
號的1.2億美元。
目前，ASML已經投產的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數方面，
3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。
另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟體升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN
NXT:2050i已經在三季度結束驗證，四季度早期開始正式出貨。
據悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60台光刻機收入，出貨了10台EUV光刻機。
3.心得/評論：
這壟斷性更強了，仰賴電子元件的奈米機器人應該會有新的型號跟應用了。
反正封裝端一定能吃到訂單可以找低點布局。