台積電全球第一以EUV導入N7+、助攻客戶產品大量進入市場
1.原文連結：
http://bit.ly/2LXlYD9
2.原文內容：
台積公司今(2019.10.7)日宣布，其領先業界導入極紫外光（EUV）微影技術之7奈米強效
版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基於台積公司成功
的7奈米製程之上，為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。
N7 +的量產速度為史上量產速度最快的製程之一，於2019年第二季開始量產，在7奈米製
程技術（N7）量產超過一年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。N7 +同時提供了整
體效能的提升，N7 +的邏輯密度比N7提高了15％至20％，並同時降低了功耗，成為業界下
一波產品中更受歡迎的製程選擇。
EUV微影技術使台積公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進
製程的設計。台積公司的EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台亦達大量生產的目標
，在日常運作的輸出功率都大於250瓦。
N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積公司的6奈米製程技術（N6）將於2020年
第一季進入試產，並於2020年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用，N6的邏輯
密度將比N7提高18％，而N6憑藉著與N7完全相容的設計法則，亦可大幅縮短客戶產品上市
的時間。
2019年，台積公司全球總產能超過1,200萬片之12吋晶圓約當量，台積公司並提供最廣泛
的製程技術，全面涵蓋自（大於）0.5微米製程至最先進的製程技術，即現今的7奈米製程
，也是全球第一家提供7奈米製程技術為客戶生產晶片的專業積體電路製造服務公司。
3.心得/評論：
台積電原本的7奈米製程好像還是用DUV曝光，但是在7奈米強效版則是改用EUV曝光。照
Technews的整理，N7+可比N7簡少10~20%的面積或是降低10%的功耗。