億光中國547號專利被無效 日亞化勝訴
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日亞化(Nichia)新聞稿表示，中國國家知識產權局2019年6月21日，作成審查決定，認同
日亞之主張，宣告億光中國所擁有專利申請號：ZL200710161547.X）覆晶晶片技術之547
號專利全部無效。
之前，日亞針對億光電子（中國）有限公司關於覆晶晶片技術547號專利提出專利無效請
求，終獲判該專利全部無效。中國國家知識產權局認為：
決定要點：如果一項權利要求請求保護的技術方案與最接近的現有技術存在多個區別技術
特徵，但是該些區別技術特徵分別被其他多篇對比文件公開，且該些區別技術特徵在各自
被公開的對比文件中所解決的技術問題與其在本專利中所解決的技術問題相同，即其他對
比文件給出了將該些區別技術特徵應用到最接近的現有技術中的技術啟示，則該權利要求
要求保護的技術方案相對於該些對比文件的結合不具備突出的實質性特點和顯著的進步，不具備創造性。
中國國家知識產權局作成上述決定後，於是，億光中國就547號專利對日亞及日亞客戶向
深圳市中級人民法院所提起之專利侵害訴訟，因而億光中國決定撤回訴訟而告終結。