Intel擁有地球上最先進的半導體製造工藝
官方毫不謙虛地說要領先TSMC等對手三年半
不過16/14nm節點上其他對手也追趕上來了
三星的14nm FinFET工藝已經量產，還在積極準備10nm工藝
而TSMC也預計在2017年量產10nm工藝，差不多跟Intel同一年推出了
水準相當。Intel的王者地位似乎受到了挑戰，不過他們並不為此著急
手裡還是有很多黑科技的，別說10nm工藝了，他們已懂得如何製造7nm工藝了。
Intel公司總裁蕾妮‧詹姆斯（Renee James）
在公司年度會議的Q&A提問環節回答了制程工藝的問題
她說“10nm之後會迎來7nm工藝，我們對如何在該工藝節點上生產半導體很自信。
總之，我們認為我們的狀況非常好。”
這並非Intel第一次對7nm工藝表達自信了，去年的IDF會議上
Intel院士Mark Bohr在回答提問時也做過類似表態。
當時大家都很關心EUV光刻設備的進展，這對半導體製造很重要
但他表示就算沒有EUV光刻機，Intel也懂得如何製造10nm及7nm工藝電路。
作為摩爾定律的提出者及最堅定的捍衛者，Intel在半導體工藝上一直保持領先
他們手頭還有很多黑科技沒有曝光。此前有分析認為Intel在10nm
節點可能會使用量子阱電晶體、銦鎵砷及應變鍺等先進工藝與材料
Intel雖然並沒有公開討論過10nm及7nm工藝的細節，但他們如此自信的背後顯然是有備而
來的。
來源︰http://www.expreview.com/40745.html
Intel 自我感覺良好 黑科技
AMD 永遠趕不上了