對不起，不知道在這裡問適不適合，
不過真的滿急的，我也不是本科，只好來求救...
製程中有一部份是微影技術，
其中有利用"相移式光罩(phase shift mask)"來提升原始圖案轉印在晶圓上的解析度，
其中有一部份我看不太懂，
"有關於當罩幕上的原始圖案間距/線寬比在3.0-6.5之間時，
外輔助圖案和內輔助圖案的配置方式。
習知技藝中當原始圖案間距/線寬比大於6.5時，
會在每一個獨立線條外側配置輔助圖案，
使其能獲得充分的製程窗口(process window)，
一個充分的製程窗口能確保投影的影像線條與原圖形線條一致。"
"當原始圖案間距/線寬比小於3.0時，則僅在最外側線條配置輔助圖案，
在密度甚高的線條間並不配置輔助圖案，
因為若在密度甚高的線條間配置輔助圖案的話，
很容易就會產生sidelobe的問題或是增加罩幕誤差因子。"
想請問各位，process window、sidelobe是什麼意思...
還有配置所謂的輔助圖案是利用什麼原理減少上述的問題？
非常感謝解答