[新聞] ASML光刻機再受出口管制 挫中共芯片野心

作者: eeth ( )   2023-10-19 19:00:32
1.媒體來源:大紀元新聞網
2.記者署名:夏雨
3.完整新聞標題:ASML光刻機再受出口管制 挫中共芯片野心
4.完整新聞內文:
更新 2023-10-19 3:49 PM
圖:https://reurl.cc/OjmVN7
總部位於荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)的ASML公司製造最先進的光刻機。(Joyce
van Belkom/AFP via Getty Images)
【大紀元2023年10月19日訊】(大紀元記者夏雨綜合報導)週二(10月17日),
美國政府更新了人工智能芯片的出口管制規定,意在限制向共產中國等國家出口高端人
工智能芯片。週三,荷蘭半導體設備製造商ASML Holding NV(阿斯麥)首席執行官表
示,該公司又一款產品受到美國新出口規定的限制。
在該公司第三季度業績公布後的新聞發布會上,首席執行官彼得‧溫尼克(Peter
Wennink)表示,今年推出的荷蘭出口許可規則未涵蓋的另一款ASML產品,在週二宣
布的美國新出口規則下受到限制。
該產品是ASML的1980Di DUV光刻機(深紫外光刻系統),可用於幫助製造相對先
進的計算機芯片以及中端和較舊的芯片。
「原則上,1980系列將受到出口管制限制,但只有當……(它們)用於先進半導
體製造時。」溫尼克說。
ASML是全球最大的光刻機供應商,光刻機是芯片製造的關鍵設備,將芯片設計印
刷在晶圓上。這些機器對於製造從處理器到存儲芯片的一切產品至關重要。台積電、三
星和英特爾等芯片製造商使用這些設備來幫助創建芯片電路。中國是該公司第三大市
場,僅次於台灣和韓國。
荷蘭政府自2019年起禁止向中國運送ASML最尖端的芯片生產工具極紫外系統(EUV
)。今年6月,荷蘭政府公布了出口管制規則,禁止ASML向中國出口某些類型的深紫外
光刻系統(DUV)。
DUV光刻機不是ASML最先進的工具,但它們仍然可以幫助中共提高其芯片製造技術
。例如,中芯國際利用基於DUV光刻的7納米技術,幫助華為恢復了部分5G移動芯片製
造能力。DUV也是一種「雙重用途」技術,意味著它可以用於商業和軍事目的。
分析師和行業高管表示,美國最新規定可能會影響ASML 1980Di DUV光刻機對中國
的出貨量。這些廣泛使用的機器通常用於生產28納米芯片,適用於各種微控制器、圖
像傳感器、顯示驅動器等。其它DUV光刻系統,如2000i和更先進的工具,已經屬於荷
蘭對中國出口管制的範圍,該管制於9月份生效。
目前,沒有一家中國公司有能力製造1980Di技術水平的機器。
野村證券分析師滕?安(Donnie Teng)在談到最新規定時對《日經新聞》表示:
「這肯定會影響中國成熟的28納米芯片擴張計劃,並為中國半導體行業帶來更多不確定
性。」
日本、荷蘭和美國主導了全球芯片生產工具的供應。日本尼康和ASML是光刻機的
主要供應商。
ASML先進的沉浸式DUV系統被全球芯片製造商廣泛採用,包括中國芯片製造巨頭中
芯國際、存儲芯片製造商長江存儲和中國DRAM存儲芯片製造大廠長鑫存儲。
責任編輯:葉紫微#
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