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1.媒體來源:
風傳媒
2.記者署名:
周康玉
3.完整新聞標題:
獨家》中芯7奈米已出貨，還很像台積電產品？護國神山法務部門啟動調查
4.完整新聞內文:
根據研調機構Tech Insights在日前（7/19）發布的拆解報告指出，MinerVa Semiconductor
新品礦機的SoC，採用中芯國際的7奈米製程，新機並已全面上市。
據該報告指出，最初的圖像和台積電相似，原文如下：
Initial images suggest similarities with TSMC's 7nm process technology.
此文一出，也讓市場有一股風向指涉中芯「抄襲」台積電。對此，台積電並未表示任何評論
，然而根據匿名消息指出，台積電法務部門已經開始對此事進行了解，同時，也已針對此報
告進一步分析。
市場人士指出，Tech Insights是歷史悠久、具公信力的研調公司，就連台積電也固定購買
該公司報告，作為掌握市場脈動的來源之一。
另一引起市場討論的是，台積電是否可能因此事件再次提告中芯？業內人士觀察，提告與否
還需要更多具體訊息，但可以確定的是，台積電勢必要針對此事內部做review（檢視），為
何7奈米晶片的相關資料洩漏出去？
台積電在2017年中就已試產7奈米，2018年第二季量產，在市面上不難取得7奈米的樣品；盡
管如此，業內人士分析，關鍵還是要看該報告所指的7奈米晶片結構，是否跟台積電的結構
及材料一模一樣。業內人士認為，不管中芯多麼用力copy（抄襲）台積電，也一定會有地方
不一樣，因為兩家公司機台參數必然不會完全相同。
然而，此報告尚未全文曝光，目前市場上僅流傳10頁的簡要版本；此外，報告內容中的晶片
僅有俯瞰圖、並無截面圖，資深產業分析師指出，後者才能有進一步的晶片架構和材料分析
，也才能確認中芯國際的產品究竟是否和台積電7奈米晶片一模一樣。
台積電曾在2002年及2006年分別提告中芯抄襲，最終於2009年達成和解，中芯的條件是賠償
2億美元、及讓與8％股權，換言之，台積電大獲全勝。業內人士認為，雖然台積電提告中芯
曾獲得勝訴，但是否有此必要再次打法律戰？根據專利律師指出，專利訴訟曠日費時、開銷
十分龐大，若非影響到公司最仰賴的產品線，大多會是以戰逼和、尋求和解收場。
沒有EUV，中芯也能做得出7奈米？
另一市場關注焦點著墨7奈米製造的可能性，從半導體製造技術層面來看，在不需要EUV曝光
機下，亦可生產7奈米，換言之，中芯可製造7奈米的能力，倒是可以不用懷疑。
報告指出，在美國禁令下，中芯國際在先進製程設備使用受到限制；三星和台積電的7製程
節點本就不需要使用EUV曝光，但必須用更高的成本，和更為複雜的設計規則來交換。
報告原文如下：
SMIC will not likely have that evolution option in the near-to medium term and w
ill continue to evolve the 7nm node without that capability, at the cost of incr
easing complexity (and resulting yield issues).
上述內容指涉一個可能事實，在中芯被禁用艾司摩爾EUV曝光機前提之下，仍舊成功量產7奈
米，但中芯製程複雜性和最關鍵的良率，仍然不明。也因此，市場揣測，中芯可能方法是使
用較為落後的DUV（深紫外光）曝光機量產7奈米。
簡單來說，先進製程的EUV（Extreme Ultraviolet Lithography，極紫外光）是一次性曝光
，而DUV（Deep Ultraviolet Lithography，深紫外光）只能反覆曝光，較為耗費人力，製
程也會因此更為冗長。
也有一說，中芯透過逆向工程（reverse engineering）來拆解和抄襲台積電7奈米晶片。業
內人士指出，逆向工程是科技業界很例行的工作，這和侵權的行為相去甚遠。
業內人士表示，無論是否提告侵權，可以確定的是，由於報告中提及該晶片結構和台積電7
奈米晶片相似，台積電不可能對此案置之不理。
責任編輯/周岐原
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