[討論] 關於ALD原子層堆積法的問題

作者: hatsu5400 (莫球)   2019-11-13 16:59:33
不知道在這邊的各位大大有沒有人使用過原子層堆積的裝置
我用ALD堆積hfo2 150cy在矽片上方
出來的結果如下圖
https://i.imgur.com/B9dxAiW.jpg
感覺堆積厚度很不平均
(應該說整個就是怪怪的
不知道奇怪的顏色分佈那邊是什麼...)
有人遇過一樣的問題或知道什麼改善方法嗎?
考慮到的可能性是溫度沒設定好(試料台設定275度
但是用紅外線攝影機看的時候加熱後溫差分佈狀況雖然有一點不一樣但是整體還算溫度差
不多)
作者: bigbill (A_A)   2019-11-13 17:58:00
正常不都是2%以內的均勻性嗎...
作者: yfchen1976   2019-11-13 18:05:00
要先看溫度分佈是否正常
作者: hatsu5400 (莫球)   2019-11-13 18:18:00
一開始也覺得是溫度的分佈不正常所以有用紅外線攝影機和熱電偶測溫度,邊緣的地方是由產生一些溫差沒錯但大致上溫度是一致的還有想請問有溫差的時候知道要怎麼解決嗎?
作者: shiow1026 (CannonDick)   2019-11-15 09:51:00
熱應力問題吧 你退火時間多久?堆積厚度 你要用拉曼去看才知道
作者: m9903249 (doggy)   2019-11-18 23:02:00
晶圓的平坦度跟翹曲?
作者: aromaQ626 (摳咪霉庇)   2019-11-21 23:35:00
雖然不是很清楚ALD細節原理不過以鍍薄膜的淺薄觀點跟物理光學的角度來看那個像彩虹的部分應該是薄膜干涉類似肥皂泡或是馬路上水灘上的油應該不是有什麼奇奇怪怪的東西

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